磁控濺射生產(chǎn)線

產(chǎn)品特點(diǎn)

技術(shù)參數(shù)

設(shè)備型號(hào)ZCJ-300(600、1200)
極限真空8×10-5Pa
腔室功能分類進(jìn)、出樣室(1000Pa)
過(guò)渡室(0.5Pa)
緩沖室(壓力及氣氛匹配濺射室)
濺射室(0.5Pa)
濺射靶類型矩形平面靶、圓柱旋轉(zhuǎn)靶

技術(shù)參數(shù)

樣品幅寬300、600、1200mm
常用靶材ITO、NiO2、Cu
靶基距80~120mm
鍍膜節(jié)拍≥60s
連續(xù)運(yùn)行時(shí)間≥200h
片內(nèi)膜厚均勻性≤±3%
片間膜厚均勻性≤±3%
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